SMEE光刻機是上海微電子裝備(集團)股份有限公司研發(fā)生產(chǎn)的光刻設備。SMEE是“上海微電子”的英文縮寫。

光刻機是集成電路制造中最重要的設備之一，用于將圖形轉移到半導體晶圓上。光刻機的性能直接決定了集成電路的線寬、精度和產(chǎn)量。

SMEE光刻機主要有兩個系列：SSB500系列和SSX600系列。SSB500系列用于集成電路先進封裝，SSX600系列用于集成電路前道制造。

SSB500系列光刻機

SSB500系列光刻機采用步進投影技術，分辨率可達0.8~2μm。SSB500系列光刻機主要應用于Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等先進封裝形式，可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級/方板級光刻工藝需求。

SSB500系列光刻機的核心技術包括：

高精度MVS對準系統(tǒng)：MVS對準系統(tǒng)采用多視點對準技術，可實現(xiàn)高精度、高重復性的對準。

低畸變投影物鏡：投影物鏡采用先進的光學設計技術，可有效降低光學畸變。

特征圖形標記和光柵標記：特征圖形標記和光柵標記可提高對準精度和套刻精度。

SSX600系列光刻機

SSX600系列光刻機采用步進掃描投影技術，分辨率可達90nm、110nm、280nm。SSX600系列光刻機主要用于集成電路前道制造，可滿足90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。

SSX600系列光刻機的核心技術包括：

四倍縮小倍率的投影物鏡：四倍縮小倍率的投影物鏡可提高光刻機的曝光效率。

工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術：工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術可實現(xiàn)自動調(diào)焦和調(diào)平，提高光刻機的自動化程度。

高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術：高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術可提高光刻機的曝光精度。

SMEE光刻機的意義

SMEE光刻機的研發(fā)成功是我國半導體產(chǎn)業(yè)的重要里程碑。SMEE光刻機填補了我國在高端光刻機領域的空白，標志著我國在集成電路制造領域的技術水平有了重大突破。

SMEE光刻機的成功應用將推動我國集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。SMEE光刻機可用于制造高性能、高集成度的集成電路，將廣泛應用于人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、自動駕駛等領域。

SMEE光刻機的未來

SMEE光刻機仍在不斷發(fā)展。SMEE公司正在積極研發(fā)更高分辨率、更高產(chǎn)量的光刻機。SMEE公司還計劃與國內(nèi)外企業(yè)合作，建立光刻機產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟，共同推動我國光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

SMEE光刻機的未來充滿了希望。隨著SMEE光刻機的不斷發(fā)展，我國將有望在高端光刻機領域?qū)崿F(xiàn)自主可控，為我國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供有力保障。