在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，接觸式光刻機(jī)和接近式光刻機(jī)是兩種常用的光刻技術(shù)。它們?cè)趫D案轉(zhuǎn)移和芯片制造中扮演著重要的角色，但它們的原理、工作方式和應(yīng)用場(chǎng)景有所不同。

接觸式光刻機(jī)

接觸式光刻機(jī)是一種傳統(tǒng)的光刻技術(shù)，其工作原理是通過(guò)將掩膜與硅片直接接觸，然后利用紫外光或可見(jiàn)光照射在光刻膠上，使光刻膠的部分區(qū)域被曝光，從而在硅片表面形成所需的圖案。接觸式光刻機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移，但其缺點(diǎn)是容易造成掩膜和硅片的損傷，同時(shí)需要更多的光刻膠。

接近式光刻機(jī)

接近式光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)，其工作原理是在掩膜和硅片之間留有微小的間隙，然后利用紫外光或可見(jiàn)光照射在光刻膠上，使光刻膠的部分區(qū)域被曝光，從而在硅片表面形成所需的圖案。接近式光刻機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是能夠減少掩膜和硅片的接觸，降低了損傷的風(fēng)險(xiǎn)，并且節(jié)省了光刻膠的使用量，提高了生產(chǎn)效率。

接觸式光刻機(jī)和接近式光刻機(jī)在半導(dǎo)體制造中各有優(yōu)劣，選擇合適的光刻技術(shù)取決于具體的制程要求和生產(chǎn)需求。通常情況下，接觸式光刻機(jī)適用于對(duì)分辨率要求較高的芯片制造，而接近式光刻機(jī)適用于對(duì)生產(chǎn)效率和成本控制要求較高的芯片制造。同時(shí)，隨著技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步，接近式光刻機(jī)在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，正在逐漸取代傳統(tǒng)的接觸式光刻技術(shù)成為主流。