光刻機(jī)中使用的光源通常不是激光，而是紫外光源。光刻技術(shù)在半導(dǎo)體制造中是至關(guān)重要的步驟，它使用光來定義集成電路（IC）上的微小圖案。這些微小圖案決定了電路板上電子元件的排列和連接方式，因此光源的選擇對(duì)于成像的精度和效率至關(guān)重要。

光刻機(jī)的光源必須具備幾個(gè)關(guān)鍵特性：波長(zhǎng)短、能量穩(wěn)定和具備精確的聚焦能力。傳統(tǒng)的光刻機(jī)通常使用紫外光作為光源，主要是因?yàn)樽贤夤饩哂休^短的波長(zhǎng)（通常在200到400納米之間），這使得它能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率。在半導(dǎo)體工藝中，分辨率的提高意味著可以在芯片表面上創(chuàng)建更小、更密集的結(jié)構(gòu)，從而提高集成電路的性能和效率。

相比之下，激光的波長(zhǎng)通常較長(zhǎng)，不適合在光刻工藝中實(shí)現(xiàn)所需的微細(xì)圖案。此外，激光的能量穩(wěn)定性和聚焦能力通常也不如紫外光。因此，盡管激光在其他領(lǐng)域（如激光切割和激光打印）具有重要應(yīng)用，但在光刻技術(shù)中，紫外光源是更為常見和有效的選擇。

在現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中，隨著集成電路的尺寸不斷縮小和復(fù)雜度的增加，光刻技術(shù)的發(fā)展也在不斷進(jìn)步。新型的光源技術(shù)和改進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)計(jì)不斷涌現(xiàn)，以滿足更高分辨率和更復(fù)雜圖案的要求。然而，紫外光作為光刻機(jī)的主要光源仍然是半導(dǎo)體制造中不可或缺的關(guān)鍵技術(shù)之一。