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  • 13
    2025-01

    光刻機投影物鏡

    光刻機是半導體制造中的核心設備之一,用于將集成電路設計圖案精確地轉(zhuǎn)印到硅片上的光刻膠層中。光刻技術(shù)是芯片制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,決定了芯片的分辨率、 ...

  • 13
    2025-01

    raith光刻機

    Raith光刻機是一種高精度、納米級別的電子束曝光設備,廣泛應用于微電子、納米技術(shù)、材料科學等領(lǐng)域的研究和工業(yè)生產(chǎn)。Raith作為全球領(lǐng)先的電子束光刻 ...

  • 13
    2025-01

    光刻機目鏡

    光刻機是現(xiàn)代半導體制造中的核心設備,它用于將電子設計圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片等基材上。光刻技術(shù)廣泛應用于集成電路(IC)、微機電系統(tǒng)(MEMS)、顯示器以 ...

  • 12
    2025-01

    光刻機潔凈室

    光刻機潔凈室是半導體制造工藝中不可或缺的關(guān)鍵設施。光刻機(Photolithography machine)是集成電路(IC)制造過程中的核心設備,主 ...

  • 11
    2025-01

    havok光刻機

    Havok光刻機是一種專門用于半導體制造的光刻設備,其主要作用是在生產(chǎn)集成電路(IC)和微芯片的過程中通過光學曝光技術(shù)將電路圖案精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。 ...

  • 10
    2025-01

    日立光刻機

    日立光刻機(Hitachi Lithography System)是日本日立公司(Hitachi, Ltd.)在半導體制造領(lǐng)域的一個重要設備系列,專門 ...

  • 10
    2025-01

    gline光刻機

    光刻機(Lithography Machine)在半導體制造過程中起著至關(guān)重要的作用,尤其是集成電路的生產(chǎn)。隨著芯片技術(shù)的不斷發(fā)展,制程不斷微縮,光刻 ...

  • 10
    2025-01

    14nm芯片光刻機

    14nm芯片光刻機是半導體制造領(lǐng)域中用于生產(chǎn)14納米(nm)制程芯片的關(guān)鍵設備。隨著芯片技術(shù)的不斷進步,芯片尺寸不斷縮小,從28nm到14nm,再到7 ...

  • 09
    2025-01

    光刻機的歷史

    光刻機,作為半導體制造中最重要的設備之一,其發(fā)展史與集成電路(IC)技術(shù)的進步息息相關(guān)。自上世紀50年代末半導體工藝開始形成以來,光刻技術(shù)經(jīng)歷了多次革 ...

  • 09
    2025-01

    兩種光刻機

    光刻機是半導體制造中至關(guān)重要的設備,它負責將集成電路的設計圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上,形成芯片的電路。隨著芯片制造技術(shù)的不斷進步,光刻機也在不斷演化,以適 ...

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