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  • 10
    2024-12

    光刻機科普

    光刻機(Photolithography Machine)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一,廣泛應(yīng)用于集成電路(IC)、微處理器、存儲芯片、傳感器等電 ...

  • 09
    2024-12

    臺式光刻機

    臺式光刻機是一種小型化、低成本的光刻設(shè)備,主要應(yīng)用于實驗室研究、原型設(shè)計以及中小規(guī)模生產(chǎn)等領(lǐng)域。與傳統(tǒng)的大型光刻機相比,臺式光刻機體積更小,通常采用臺 ...

  • 08
    2024-12

    mems 光刻機

    微機電系統(tǒng)(MEMS,Micro-Electro-Mechanical Systems)是將微型機械元件、傳感器、執(zhí)行器以及電子電路集成在一起的系統(tǒng), ...

  • 07
    2024-12

    光刻機 asml

    ASML(阿斯麥)是全球唯一一家生產(chǎn)極紫外光(EUV)光刻機的公司,代表著光刻技術(shù)的前沿。作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中不可或缺的一環(huán),光刻機在集成電路的制造中扮演 ...

  • 06
    2024-12

    干式光刻機

    光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的工藝之一,其核心任務(wù)是通過光照射將掩模上的電路圖案轉(zhuǎn)印到硅片上的光刻膠層中。在半導(dǎo)體制造的過程中,光刻機的技術(shù)發(fā)展對于 ...

  • 05
    2024-12

    100nm光刻機

    光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的工藝之一,它決定了集成電路(IC)中各種微結(jié)構(gòu)的尺寸和精度。隨著集成電路技術(shù)不斷發(fā)展,微縮技術(shù)不斷進步,100nm光刻機作 ...

  • 04
    2024-12

    光刻機線寬

    光刻技術(shù)(Photolithography)是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的工藝之一,用于將電路圖案從掩模(Mask)轉(zhuǎn)移到硅片(Wafer)表面的光刻膠(P ...

  • 03
    2024-12

    紫光euv光刻機

    隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進步,集成電路的尺寸不斷縮小,制造工藝也經(jīng)歷了多個節(jié)點的升級。從傳統(tǒng)的深紫外光(DUV)光刻到極紫外光(EUV)光刻,光刻技術(shù)的每 ...

  • 02
    2024-12

    光刻機由什么組成

    光刻機是半導(dǎo)體制造過程中至關(guān)重要的設(shè)備之一,其主要作用是將掩模上的電路圖案通過光照射轉(zhuǎn)印到硅片上的光刻膠層,形成芯片的基礎(chǔ)電路。光刻技術(shù)在集成電路(I ...

  • 01
    2024-12

    光刻機 半導(dǎo)體

    光刻機(Photolithography Machine)是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中至關(guān)重要的一種設(shè)備,它通過精確地將電路圖案轉(zhuǎn)印到硅片(Wafer)上, ...

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