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2024-09
雙光子光刻機
雙光子光刻機（Two-Photon Lithography, TPL）是一種新興的高分辨率微納制造技術，廣泛應用于微電子、光子學、材料科學和生物工程等 ...
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2024-09
啥是光刻機
光刻機是半導體制造中不可或缺的核心設備，用于將電路設計圖案轉移到硅片上。其工作原理基于光學成像技術，通過對光刻膠的曝光和顯影過程，實現(xiàn)微細圖案的制作。 ...
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27
2024-09
深紫光刻機
深紫外光刻機（Deep Ultraviolet Lithography DUV）是現(xiàn)代半導體制造中不可或缺的重要設備。它利用深紫外光源進行電路圖案的曝 ...
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2024-09
幾代光刻機
光刻機是半導體制造中的關鍵設備，其發(fā)展歷程可分為幾個重要的代際，隨著技術的不斷進步，光刻機的性能和應用范圍也在不斷提升。第一代光刻機第一代光刻機主要使 ...
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2024-09
黃光光刻機
黃光光刻機（也稱為光刻機）是半導體制造過程中的關鍵設備，主要用于將設計的電路圖案轉移到硅片上。黃光光刻技術主要依賴于紫外光進行曝光，通常采用的光源波長 ...
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26
2024-09
光刻機光路
光刻機的光路設計是其核心技術之一，直接影響圖形轉移的精度和效率。光刻機的光路主要包括光源、光學系統(tǒng)、掩模、涂膠層和基片等多個環(huán)節(jié)，每一個環(huán)節(jié)都對最終的 ...
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2024-09
光刻機焦深
光刻機的焦深（Depth of Focus, DOF）是影響光刻質(zhì)量和分辨率的重要參數(shù)之一。焦深是指在光刻過程中，圖像保持清晰的范圍，即在一定的焦距內(nèi) ...
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2024-09
飛米光刻機
飛米光刻機是一種高精度的微納米制造設備，廣泛應用于半導體、光電和生物醫(yī)學等領域。其核心功能是通過光照射在涂有光刻膠的基板上，形成微米或納米級別的圖案。 ...
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2024-09
雕激光刻機
雕激光刻機是一種利用激光技術進行高精度雕刻、打標和刻印的設備。它通過將激光束聚焦到材料表面，產(chǎn)生高能量密度，使材料在局部瞬間蒸發(fā)或熔化，從而實現(xiàn)所需的 ...
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2024-09
光刻機的光
光刻機的光源是其核心組件之一，直接影響光刻過程的分辨率和成像質(zhì)量?，F(xiàn)代光刻機主要采用激光光源、汞燈以及更先進的極紫外光（EUV）等。首先，激光光源具有 ...