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07
2024-11
euv光刻機多少納米
極紫外光（EUV）光刻技術(shù)是一種突破性的發(fā)展，旨在滿足半導(dǎo)體制造工藝向更小節(jié)點推進的需求。與傳統(tǒng)的深紫外（DUV）光刻技術(shù)相比，EUV光刻機采用了13 ...
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07
2024-11
2100i光刻機
2100i光刻機 是一款用于半導(dǎo)體制造的高端光刻設(shè)備，通常被用于先進的集成電路（IC）生產(chǎn)，尤其是在小型化、高集成度的芯片制造中。它屬于傳統(tǒng)紫外光（D ...
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06
2024-11
光刻機工藝
光刻機工藝是半導(dǎo)體制造中的核心工藝之一，涉及將集成電路的設(shè)計圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的過程。光刻技術(shù)不僅是芯片制造中最關(guān)鍵的步驟之一，而且對芯片的性能 ...
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05
2024-11
光刻機原理詳細介紹
光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，其主要功能是將微觀電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到晶圓表面的光刻膠層上。該過程是集成電路（IC）制造中最重要的步驟之一，也是當(dāng)前芯 ...
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04
2024-11
光刻機的四種主要類型
光刻機是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，其主要功能是將電路設(shè)計圖案高精度地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。根據(jù)不同的技術(shù)原理和應(yīng)用需求，光刻機可分為四種主要類型：接觸式光刻 ...
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03
2024-11
光刻機按照曝光方式分類
光刻機是半導(dǎo)體制造過程中的核心設(shè)備，其主要功能是將電路設(shè)計圖案高精度地轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。根據(jù)曝光方式的不同，光刻機可以被分為幾種類型，這些分類不僅影響成 ...
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02
2024-11
光刻機的分類
光刻機是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的設(shè)備，其主要功能是將電路設(shè)計圖案精確轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。光刻機的分類依據(jù)不同的技術(shù)原理、應(yīng)用需求和分辨率要求，可以分 ...
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31
2024-10
光刻機 物鏡
光刻機中的物鏡是實現(xiàn)高精度圖案轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵光學(xué)組件，負責(zé)將激光或其他光源發(fā)出的光束聚焦到光刻膠涂層上的硅晶圓上。物鏡的設(shè)計和性能直接影響到光刻工藝的分辨 ...
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2024-10
光柵尺光刻機
光柵尺光刻機是現(xiàn)代光刻技術(shù)中的一種重要工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微機電系統(tǒng)（MEMS）以及其他高精度微納加工領(lǐng)域。光柵尺的引入大大提升了光刻機的定位 ...
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2024-10
光刻機激光器
光刻機激光器是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵組成部分，特別是在光刻技術(shù)中，激光器負責(zé)提供所需的光源，以形成高精度的微型電路圖案。隨著半導(dǎo)體技術(shù)向更小尺寸和 ...
北京科匯華晟技術(shù)開發(fā)有限公司
專業(yè)的國產(chǎn)光刻機廠家 30年專注光刻機
