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2024-08
光刻機 光刻膠
光刻膠（Photoresist）在光刻機（Photolithography）過程中扮演著至關重要的角色，是半導體制造中不可或缺的關鍵材料。光刻機通過將 ...
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2024-08
光刻膠 光刻機
光刻膠和光刻機是半導體制造過程中的兩個核心要素，它們密切配合，實現(xiàn)微米級到納米級精度的電路圖案轉印。1. 光刻膠的基礎光刻膠（Photoresist） ...
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2024-08
佳能光刻機多少納米
佳能（Canon）作為全球領先的光學設備制造商之一，在光刻機領域具有顯著的市場地位。佳能的光刻機技術主要應用于半導體制造，支持從微米級別到納米級別的精 ...
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2024-08
西班牙光刻機
西班牙在光刻機技術領域的貢獻雖相對較小，但近年來有所提升。西班牙的光刻機行業(yè)主要涉及光刻設備的設計、制造及其相關技術研發(fā)。光刻機作為半導體制造中的核心 ...
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2024-08
22nm光刻機
22nm光刻機是一種專門設計用于制造22納米（nm）制程節(jié)點的光刻設備。22nm制程是半導體制造中的一個重要技術節(jié)點，代表了集成電路和半導體器件的小型 ...
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2024-08
一微米光刻機
一微米光刻機（1-Micrometer Lithography Machine）是專門設計用于制造一微米級別結構的光刻設備。這種光刻機在微電子制造、微 ...
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2024-08
光刻機無掩膜
無掩膜光刻（Maskless Lithography, MLL）是一種新興的光刻技術，旨在消除傳統(tǒng)光刻工藝中的掩膜板（掩膜）的使用。傳統(tǒng)光刻中，掩膜板 ...
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27
2024-08
光刻機掩膜版
光刻機掩膜版（Photomask），或稱掩膜（Mask），在半導體制造過程中扮演著關鍵角色。它是將電路圖案從設計文件精確轉印到硅晶圓光刻膠上的核心工具 ...
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2024-08
實驗室用小型光刻機
實驗室用小型光刻機是一種專門設計用于研究和開發(fā)階段的光刻設備，其主要用途包括微納米結構的制備、材料科學研究以及原型開發(fā)等。相比于工業(yè)級光刻機，小型光刻 ...
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2024-08
封裝用光刻機
封裝用光刻機是半導體封裝制造中的關鍵設備，負責將電路圖案精確地轉印到封裝材料上。與芯片制造中的光刻技術類似，封裝光刻機同樣對封裝的精度和可靠性有著直接 ...