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2024-08
光刻機(jī)掩膜板
光刻機(jī)掩膜板（Mask Plate），通常被稱為掩模（Mask）或光掩模（Photomask），是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的組成部分之一。掩膜板的主要功能 ...
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2024-08
英特爾的光刻機(jī)
英特爾在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的領(lǐng)先地位不僅依賴于其創(chuàng)新的芯片設(shè)計和先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，還包括其在光刻技術(shù)方面的顯著投入。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中的核心設(shè)備，負(fù)責(zé) ...
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2024-08
asml的光刻機(jī)
ASML（阿斯麥）是全球領(lǐng)先的光刻機(jī)制造商，其光刻機(jī)技術(shù)在半導(dǎo)體制造中扮演了至關(guān)重要的角色。作為行業(yè)的標(biāo)桿，ASML的光刻機(jī)代表了最前沿的光刻技術(shù)，并 ...
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2024-08
1950i光刻機(jī)
1950i光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要設(shè)備，它代表了光刻技術(shù)的一個重要發(fā)展階段。光刻技術(shù)是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中用于將電路圖案轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的關(guān)鍵技術(shù)。19 ...
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2024-08
雙光子三維光刻機(jī)
雙光子三維光刻（Two-Photon Polymerization, TPP）技術(shù)是一種先進(jìn)的三維納米制造技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微納加工、光子學(xué)、醫(yī)學(xué)工程等 ...
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2024-08
國產(chǎn)光刻機(jī)光源
國產(chǎn)光刻機(jī)光源是半導(dǎo)體制造設(shè)備中至關(guān)重要的組成部分之一，其性能直接影響到光刻技術(shù)的分辨率和生產(chǎn)效率。隨著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，國產(chǎn)光刻機(jī)光源技術(shù)也 ...
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2024-08
微米級光刻機(jī)
微米級光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其主要功能是將電路圖案精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路（IC）的生產(chǎn)中，對于推動電子技術(shù) ...
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2024-08
聯(lián)合精密 光刻機(jī)
聯(lián)合精密（United Precision）是一家在光刻機(jī)領(lǐng)域較為新興的公司，專注于開發(fā)和生產(chǎn)高精度的光刻設(shè)備。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，負(fù)責(zé)將 ...
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2024-08
16nm光刻機(jī)
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻機(jī)是將電路設(shè)計圖案從掩模精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上的關(guān)鍵設(shè)備。隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展，制程節(jié)點不斷向更小尺寸推進(jìn)。16nm制程節(jié)點代表 ...
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2024-08
瑞典 光刻機(jī)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中至關(guān)重要的設(shè)備，負(fù)責(zé)將集成電路設(shè)計圖案從掩模精確地轉(zhuǎn)印到硅晶圓上。瑞典，作為科技創(chuàng)新和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要參與者，雖然在全球光刻機(jī)市場 ...
北京科匯華晟技術(shù)開發(fā)有限公司
專業(yè)的國產(chǎn)光刻機(jī)廠家 30年專注光刻機(jī)
